关键词：电子束曝光技术 抗蚀剂工艺 邻近效应 

摘要：作为一种非化学放大的无机负性电子束光刻抗蚀剂，HSQ（hydrogen silsesquioxane）具有极高的分辨率（约5nm），由于灵敏度较低，限制了其在微纳米加工方面的应用。从化学结构变化的角度分析了HSQ在电子束曝光中的性能，通过实验验证了其灵敏度及对比度受前烘温度及显影液浓度的影响较大，并且其在电子柬曝光中的邻近效应也可以通过改变这两个条件而得到一定的抑制。根据所得优化工艺条件，在450nm胶层上，制作出100nm等间距光栅结构胶层图形，且其侧壁陡直性良好。

微细加工技术杂志要求:

{1}请在来稿中注明作者姓名、出生年月、单位、职称及联系方式。

{2}来稿文责自负，作者应对文章的署名和内容无异议，请保证稿件的原创性，不侵犯他人的著作权，请勿抄袭或者重复刊发文章。

{3}论文标题应准确、简明、具体，能概括文章的核心内容，一般不超过20个字。

{4}引征二手文献、资料，需注明该原始文献资料的作者、标题，并在其后标注“转引自”及该援引的文献、资料等。

{5}摘要篇幅以50~300字不宜，写成报道性摘要，内容包括研究工作的目的、方法、结果和结论。

注：因版权方要求，不能公开全文，如需全文，请咨询杂志社