期刊在线咨询服务,发表咨询:400-888-9411 订阅咨询:400-888-1571股权代码(211862)
关键词:电子束光刻 x射线透射光栅 邻近效应校正 x射线光刻
摘要:为了制备高线密度X射线透射光栅掩模,分析了电子束光刻中场拼接对高线密度光栅图形的影响;利用几何校正技术和低灵敏度的950k的PMMA电子束抗蚀剂,克服了电子束的邻近效应对厚胶图形曝光的影响。采用电子束光刻和微电镀的方法制备了5000 line/mm X射线透射光栅的掩模,并将栅线宽度精确控制在100nm~110nm,为X射线光刻复制高线密度X射线透射光栅创造了有利条件。
微细加工技术杂志要求:
{1}请在来稿中注明作者姓名、出生年月、单位、职称及联系方式。
{2}来稿文责自负,作者应对文章的署名和内容无异议,请保证稿件的原创性,不侵犯他人的著作权,请勿抄袭或者重复刊发文章。
{3}论文标题应准确、简明、具体,能概括文章的核心内容,一般不超过20个字。
{4}引征二手文献、资料,需注明该原始文献资料的作者、标题,并在其后标注“转引自”及该援引的文献、资料等。
{5}摘要篇幅以50~300字不宜,写成报道性摘要,内容包括研究工作的目的、方法、结果和结论。
注:因版权方要求,不能公开全文,如需全文,请咨询杂志社