关键词：刻蚀深度 在线检测 扫描离子束刻蚀 等厚干涉 衍射光学元件 

摘要：基于楔形光学平板的等厚干涉原理，提出了一种透射衍射光学元件扫描离子束刻蚀深度的在线检测方法，用一块与被刻蚀光学元件材料相同的楔形薄片作为陪片，在刻蚀过程中将其遮挡一半，利用陪片等厚条纹的错位去测量其刻蚀深度，从而间接检测出被刻蚀光学元件的刻蚀深度。在KZ-400大型离子束刻蚀装置上建立了这种在线检测装置。多次实验表明，在线检测结果同台阶仪的测量结果基本吻合，二者相差不超过10nm。本检测方法能够可靠、准确地用来确定刻蚀终点，已经成功应用于位相型Ronchi光栅等大口径位相衍射光学元件的刻蚀制作。本方法还可以用于对其他透明材料的微结构进行扫描刻蚀深度在线检测。

微细加工技术杂志要求:

{1}请在来稿中注明作者姓名、出生年月、单位、职称及联系方式。

{2}来稿文责自负，作者应对文章的署名和内容无异议，请保证稿件的原创性，不侵犯他人的著作权，请勿抄袭或者重复刊发文章。

{3}论文标题应准确、简明、具体，能概括文章的核心内容，一般不超过20个字。

{4}引征二手文献、资料，需注明该原始文献资料的作者、标题，并在其后标注“转引自”及该援引的文献、资料等。

{5}摘要篇幅以50~300字不宜，写成报道性摘要，内容包括研究工作的目的、方法、结果和结论。

注：因版权方要求，不能公开全文，如需全文，请咨询杂志社