无掩模光刻技术研究

关键词：无掩模光刻 扫描电子束光刻 波带片阵列光刻 掩模版 

摘要：介绍了无掩模光刻技术的现状和存在的问题，并对几种常见的无掩模光刻技术进行了详细的对比分析。研究表明，扫描电子柬光刻具有极高的分辨率，但是生产效率较低；波带片阵列光刻技术已经在理论和实验上取得了广泛的成果，在保持无掩模光刻技术高分辨力的同时，对电子束的低效率将是一种补充，是一种很有潜力的用于制作掩模版的光刻技术。

微细加工技术杂志要求:

{1}请在来稿中注明作者姓名、出生年月、单位、职称及联系方式。

{2}来稿文责自负，作者应对文章的署名和内容无异议，请保证稿件的原创性，不侵犯他人的著作权，请勿抄袭或者重复刊发文章。

{3}论文标题应准确、简明、具体，能概括文章的核心内容，一般不超过20个字。

{4}引征二手文献、资料，需注明该原始文献资料的作者、标题，并在其后标注“转引自”及该援引的文献、资料等。

{5}摘要篇幅以50~300字不宜，写成报道性摘要，内容包括研究工作的目的、方法、结果和结论。

注：因版权方要求，不能公开全文，如需全文，请咨询杂志社