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分子束外延硅基碲镉汞材料技术研究现状

高达; 王经纬; 王丛; 李震; 吴亮亮; 刘铭 华北光电技术研究所; 北京100015

关键词:硅基碲镉汞 分子束外延 材料性能 

摘要:目前,高性能大面阵中波及短波红外探测器已经得到了越来越多的应用。材料参数控制精确、材料质量良好的碲镉汞材料是获得高质量碲镉汞探测器的先决条件。报道了华北光电技术研究所在分子束外延(Molecular Beam Epitaxy,MBE)生长硅基中波及短波碲镉汞材料方面的最新研究进展,并介绍了现阶段MBE生长碲镉汞材料的研究现状。

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