关键词：基片 铟钢 平面反射式 计量圆光栅 真空镀膜 

摘要：为了解决目前玻璃基片计量圆光栅无法适应振动强度大、冲击力强等恶劣环境的要求,需要改进制作计量圆光栅的基片材料。首先对光学树脂、铟钢等材料的特性进行比较,得出铟钢作为基底具有制作计量圆光栅的可行性;其次,结合现有的镀膜复制工艺,通过控制膜料质量,在蒸镀真空度1.0×10^3Pa,蒸发距离为200mm,做出膜厚220nm的单层膜铟钢基片;最后,参照光刻复制工艺,通过控制腐蚀时间确定线宽深度的工艺参数下制作出铟钢基片的单层膜平面反射计量圆光栅,在50倍显微镜下观察,线条陡直,用它提取出来的信号质量良好。实验表明:制作铟钢单层膜平面反射式计量圆光栅的工艺参数正确,为进一步广泛应用于精密测角仪器、光栅计量设备和精确跟踪定位设备等提供了试验基础。

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